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產品詳情

  • 產品名稱：SHINKUU日本真空設備 磁控濺射沉積設備

  • 產品型號：MSP-40T
  • 產品廠商：SHINKUU真空設備
  • 產品文檔：
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簡單介紹：
該器件是一種多用途、易于操作的磁控濺射沉積系統。 它是一種小型桌面式和小空間設備，可以使用強磁場形成各種金屬的薄膜。
詳情介紹：

關于必需的實用程序
氬氣
出口壓力 0.05MPa~0.08MPa，接口 1/4“ 世偉洛克

水冷機構
流量 1 升/分鐘，連接 Φ6 mm 世偉洛克
冷卻水循環系統或自來水連接。

特征

  • 該器件是一種多用途、易于操作的磁控濺射沉積系統。
  • 它是一種小型桌面式和小空間設備，可以使用強磁場形成各種金屬的薄膜。
  • 除了在低電壓下鍍膜外，樣品是浮動的，因此可以*大限度地減少樣品損壞。
  • 通過觸摸屏操作、配方功能和定序器控制，實現了全自動濺射沉積。

主要產品規格

項目 規范
權力 AC100V（單相 100V）15A 3 芯插頭，帶地線
設備大小 寬 504 mm，深 486 mm，高 497 mm
（設備重量 37.7 kg）
隔膜泵 寬 170 mm， 深 287 mm， 高 173 mm
（重量 6.5 kg）
試樣底座尺寸 直徑50mm（陽極分離浮法）
電極與樣品的間距 115 mm、95 mm、70 mm
（包括按高度計算的樣品架）
目標金屬 ITO、Ti、W、Cr、Al、Ni、Fe、Ge、Zr、Mo、Cu、Ta、Carbon等。
貴金屬靶材（使用磁場消除鎳板）
Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Pd、Ag


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