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產品詳情
  • 產品名稱:SHINKUU真空設備型臺式高真空沉積系統

  • 產品型號:VE-2013
  • 產品廠商:SHINKUU真空設備
  • 產品文檔:
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簡單介紹:
VE-2013 是一種簡化的真空沉積系統,繼承了 VE-2030(由我們公司制造)的概念。 緊湊的外殼,外殼中內置 TMP。 由于它是桌面類型,因此不會占用太多空間。 RP 是落地式安裝的。
詳情介紹:


緊湊的TMP+RP排氣系統以低廉的價格提供清潔的高真空氣相沉積系統。 消除了復雜的排氣操作,它是一種全自動控制,只需打開/關閉觸摸面板開關。

通過使用鎢籃,可以氣相沉積金、鋁、鉻、銀等。 對于碳沉積,使用夾式沉積槍類型使用特殊碳(SLC-30)沉積碳。 (不能使用φ5mm碳棒。 )


在購買時,我們將選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極。 或者,可以購買額外的電極。

碳氣相沉積電極
 這是一種
專用的碳氣相沉積電極。
它可以在高真空區域進行碳沉積,并且可以進行具有優異的薄膜質量和薄膜強度的碳沉積。
隨附的防污罩將碳氣相沉積的散射范圍降至*低,并減輕了清潔負擔。
碳氣相沉積源是專用碳(SLC-30)。
金屬氣相沉積電極 這是一種用于φ0.5mm鎢籃的
金屬氣相沉積電極

金、鋁、鉻等的氣相沉積可以輕松自如地進行。 隨附的防污蓋*大限度地減少了沉積范圍并減輕了清潔負擔。

主要產品規格

項目 規范
權力 AC100V(單相100V15A)
設備大小 寬 428 mm,深 430 mm,高 550 mm
(設備重量 38 kg)
旋轉泵(外部) 抽速:50l/min(G-50DA)(
重量:11kg)
渦輪泵(內置裝置) 抽速:67升/秒
樣品臺 直徑 72mm
沉積源-樣品表間距 可調范圍:0mm~140mm











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