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簡單介紹：
膜厚測量裝置UTS-2000應用*新的光譜分析技術，非破壞性、非接觸式，可以高速、高精度地測量外延膜、基板厚度、蝕刻殘留等膜厚。還可以使用標準自動臺來評估設備表面內的膜厚度分布。
詳情介紹：
測量范圍寬
可以在 0.25 至 750 μm 的寬測量范圍內測量薄膜厚度（基材厚度）。
高精度測量
高精度干涉儀和高通量光學系統可實現膜厚數據的高精度測量。
高效測量
與自動運輸設備兼容。
與工藝使用所需的 FOUP 開啟器和多裝載端口兼容
它還與 FOUP（由存儲晶圓的 SEMI 標準化）和多裝載端口（用于在 FOUP 中裝載和卸載晶圓的接口）兼容。
符合SEMI標準
可以在 0.25 至 750 μm 的寬測量范圍內測量薄膜厚度（基材厚度）。
高精度測量
高精度干涉儀和高通量光學系統可實現膜厚數據的高精度測量。
高效測量
與自動運輸設備兼容。
與工藝使用所需的 FOUP 開啟器和多裝載端口兼容
它還與 FOUP（由存儲晶圓的 SEMI 標準化）和多裝載端口（用于在 FOUP 中裝載和卸載晶圓的接口）兼容。
符合SEMI標準
兼容SEMI標準（半導體設備和材料國際標準）
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