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- KANETEC強力脫磁裝置
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
可以低成本實現(xiàn)80℃/s的高速退火。
該設備為紅外燈設備，采用拋物面反射紅外燈對4-6英寸晶圓進行均勻加熱。它能夠進行高速熱處理，可以方便地用作熱處理工藝研究和開發(fā)的裝置。我們可以在單個半導體工藝中進行硅化物形成和氧化膜形成，以及化合物半導體的工藝退火。
詳情介紹：
- 可進行高速熱處理
- 水冷金屬室式冷壁結(jié)構(gòu)，可實現(xiàn)高速冷卻。
- 真空置換后氣體流動也是可能的
- 您可以輕松設置溫度程序并從計算機輸入外部信號。
- 加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)可在電腦上顯示
- 腔室內(nèi)可安裝石英防污板，防止污染（可選）
- 9 區(qū)輸出控制可實現(xiàn)出色的溫度分布和重復性
| 溫度范圍 | 室溫～1100℃ |
|---|---|
| 樣本量 | 標準1個φ6英寸晶圓（可選φ4英寸或φ5英寸） |
| 氣氛 | 氣體中、氣流中、大氣中、真空中（可選配真空排氣裝置） |
| 加熱方式 | 采用拋物面反射紅外燈的上部單面加熱方式（也可采用下部加熱方式） |
| *大升溫速率 | 80℃/秒 |
| 浸泡精度 | ⊿t＝10℃ at 800℃內(nèi)部保持N 2 |
| 控制傳感器 | 標準熱電偶 JIS“K”（插入 SiC 涂層碳基座）、高溫計（可選） |
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